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精碟正式投入背光模塊產(chǎn)業(yè)
2007-03-20 來源:拓墣產(chǎn)業(yè)研究所 文字:[    ]

  精碟科技14日宣布與日本奧姆龍(OMRON)集團(tuán)簽約,取得背光模塊重要組件增亮膜(BEF)的相關(guān)專利。由于精碟原有背投屏幕的精密刻模技術(shù),為全臺少數(shù)具有制造增亮膜專業(yè)技術(shù)的廠商之一,因此,在取得奧姆龍集團(tuán)專利授權(quán)后,將正式宣告投入背光模塊產(chǎn)業(yè)。

  精碟預(yù)計2007年4月組裝2條生產(chǎn)線,預(yù)計5月起每月產(chǎn)出25萬平方公尺,并在2007年第三季擴(kuò)充至50萬平方公尺、2008年初再擴(kuò)充至100萬平方公尺。
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