全球光刻膠市場集中度高，日美韓等海外廠商壟斷。東京應(yīng)化、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)、富士膠片、韓國東進(jìn)、美國杜邦已覆蓋所有不同曝光波長的半導(dǎo)體光刻膠類型。東京應(yīng)化（TOK）是全球半導(dǎo)體光刻膠龍頭，TOK具有世界領(lǐng)先的微細(xì)加工和高純化技術(shù)；美國杜邦公司從事業(yè)務(wù)包括化工、材料、膜產(chǎn)品等，集中了原陶氏、原杜邦的特種產(chǎn)品業(yè)務(wù)，包括封裝材料及解決方案；杜邦在光刻技術(shù)方面有過許多行業(yè)首創(chuàng)的技術(shù)創(chuàng)新，產(chǎn)品包括ArF光刻膠、KrF光刻膠、i/g線光刻膠、EUV光刻膠、EUV底層和有機(jī)底部減反射涂層（BARC）材料；JSR株式會社的FPD用有機(jī)化學(xué)材料、信息電子材料、光學(xué)材料等，在全球占有極高的市場占有率。
從全球光刻膠下游不同應(yīng)用領(lǐng)域需求來看，全球光刻膠市場上，產(chǎn)品占比較為均衡，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23.0%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%。從細(xì)分產(chǎn)品市場規(guī)模占比看，半導(dǎo)體光刻膠市場ArFi占比最大（38%），其次為KrF（34%）、G/I線（16%）、ArF（10%），EUV占比最�。�1%）。
我國半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)化率極低，在國產(chǎn)替代迫切需求下，光刻膠國內(nèi)廠商大力投入高端光刻膠產(chǎn)業(yè)化，g/i線產(chǎn)品布局全面，積極布局并推進(jìn)高端KrF、ArF光刻膠的研發(fā)送樣。目前國內(nèi)彤程新材（北京科華）、鼎龍股份、晶瑞電材、徐州博康（華懋科技）、上海新陽等國內(nèi)廠商進(jìn)展相對較快。KrF膠國產(chǎn)主流廠商如彤程新材、徐州博康（華懋科技）、晶瑞電材、上海新陽處于產(chǎn)能爬坡/小批量供貨階段。ArF光刻膠方面，彤程新材已具備量產(chǎn)能力。同時，同步培養(yǎng)上游原材料端的自研自產(chǎn)能力，有望從根本上解決卡脖子問題。
2022年中國光刻膠市場規(guī)模98.6億元，同比增長5.7%；2023年中國光刻膠市場規(guī)模109.2億元，同比增長10.7%。
當(dāng)前G/I線光刻膠的市場空間趨于飽和，未來占比將逐年減少，而EUV光刻膠主要用于7nm及更小的邏輯制程節(jié)點，隨著相關(guān)技術(shù)的研發(fā)升級，EUV市場占比持續(xù)提升。