硼化鋯靶材，是指純度在3N（99.9%）及以上、主要成分為硼化鋯、應(yīng)用在濺射鍍膜領(lǐng)域的濺射源，是在基板上形成功能薄膜的理想材料。
　　硼化鋯產(chǎn)品中，二硼化鋯在寬溫度范圍內(nèi)性質(zhì)穩(wěn)定，因此硼化鋯通常是指二硼化鋯。硼化鋯，分子式ZrB2，外觀為灰色結(jié)晶或粉末狀，六方晶系，具有高熔點(diǎn)特性，超過3000℃。硼化鋯在常溫以及高溫條件下均具有優(yōu)良的物理化學(xué)穩(wěn)定性，硬度高、耐磨損、高溫強(qiáng)度高、耐熱震、高溫抗氧化。硼化鋯在常溫條件下電絕緣性高，隨著溫度提升，其導(dǎo)電性能隨之提高。
　　硼化鋯靶材制備的難度在于微觀結(jié)構(gòu)控制、純度提升、密度提高等。硼化鋯靶材可以采用熱壓燒結(jié)（HPS）、熱等靜壓燒結(jié)（HIP）、自蔓延高溫合成（SHS）、放電等離子燒結(jié)（SPS）等工藝進(jìn)行制備，這些制備方法各有優(yōu)缺點(diǎn)。硼化鋯靶材在濺射鍍膜過程中可以在基體上形成質(zhì)地均勻且致密的的薄膜，應(yīng)用范圍正在不斷擴(kuò)大，特別是在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)中發(fā)展?jié)摿Υ蟆?BR>　　憑借獨(dú)特的物理、化學(xué)、電學(xué)等性質(zhì)，硼化鋯靶材可以廣泛應(yīng)用在航空航天、核工業(yè)、機(jī)械設(shè)備、電子等領(lǐng)域，用來制造電子元器件、切削工具、防護(hù)涂層等。耐高溫性使得硼化鋯靶材可以用作高溫防護(hù)涂層，用于航空航天領(lǐng)域；高硬度、耐磨損性使得硼化鋯靶材可用來制造切削工具，用于機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域；高溫導(dǎo)電性使得硼化鋯靶材可以用來開發(fā)高溫電子元器件、高溫半導(dǎo)體器件，用于電子領(lǐng)域。
　　在核工業(yè)中，壓水堆中存在與核燃料結(jié)合的整體可燃毒物，在整體可燃毒物表面覆蓋硼化鋯涂層，可制備整體可燃毒物吸收體（IFBA），能夠調(diào)節(jié)反應(yīng)堆的反應(yīng)性，提高核燃料利用率，并降低生產(chǎn)成本。硼化鋯靶材可用于制備壓水堆核燃料元件整體可燃毒物吸收體（IFBA），在核工業(yè)中發(fā)展空間大。
　　2020年10月，有研資源環(huán)境技術(shù)研究院（北京）有限公司“硼化鋯（富集10B）靶材研制技術(shù)總結(jié)評(píng)審會(huì)”召開，其研制的10B富集硼化鋯靶材通過評(píng)審；2023年10月，有研資環(huán)承制的燃料組件用硼化鋯靶材通過中核包頭核燃料元件股份有限公司組織的專家驗(yàn)收組的源地驗(yàn)收；2024年3月，有研資環(huán)科技成果“硼化鋯靶材”被列入《中央企業(yè)科技創(chuàng)新成果產(chǎn)品手冊(cè)（2023年版）》。當(dāng)前，有研資環(huán)是我國(guó)唯一的AP1000反應(yīng)堆IFBA用中子吸收材料供應(yīng)商。